| 主权项 |
1.一种含无机粒子之组成物,包括:(A)无机粒子;(B)黏合剂树脂;及(C)至少一种塑化剂,选自于下式(1)所代表的化合物:(1)其中R1与R4系相同或不同的具有1至30个碳原子之烷基或烯基,R2与R3系相同或不同的具有1至30个碳原子之伸烷基或伸烯基,m系0至5之整数,而n系1至10之整数,及下式(2)所代表的化合物:(2)其中R5系具有1至30个碳原子之烷基或烯基。2.如申请专利范围第1项之含无机粒子之组成物,其中无机粒子(A)系至少一种共导电粒子pa,选自于Ag、Au、Al、Ni、Ag-Pd合金、Cu及Cr。3.如申请专利范围第1项之含无机粒子之组成物,其中黏合剂树脂(B)系一种丙烯酸树脂,含有一衍生自以下通式(3)所代表化合物之聚合物单元:(3)其中R6系氢原子或甲基,而R7系单价有机基。4.如申请专利范围第1项之含无机粒子之组成物,其中黏合剂树脂系至少一成员选自于上式(3)所代表的(甲基)丙烯酸化合物之均聚物、二或多种上式(3)所代表的(甲基)丙烯酸酯化合物之共聚物及上式(3)所代表的(甲基)丙烯酸酯化合物与其它可共聚合的单体之共聚物。5.如申请专利范围第1项之含无机粒子之组成物,其更含有一种下式(4)所代表的矽烷偶合剂:(4)其中p系3至20之整数,m系1至3之整数,n系1至3之整数,且a系1至3之整数。6.如申请专利范围第1项之含无机粒子之组成物,其含有5至80重量%的黏合剂树脂(B)及0.1至20重量%的塑化剂(C),此含量系以100重量份的无机粒子为基准。7.一种移转膜,包括一基础膜及一由申请专利范围第1项之含无机粒子之组成物在基础膜上所形成的成膜材料层。8.一种电浆显示板之制造方法,包括步骤为:将如申请专利范围第7项之移转膜的成膜材料层移转至基片的表面;及烘烤所移转的成膜材料层以便在基片上形成一介电层。9.一种电浆显示板之制造方法,包括步骤为:将如申请专利范围第1项之含无机粒子之组成物所形成的成膜材料层移转至基片的表面;在所移转的成膜材料层上形成一光阻膜;使光阻膜曝光以形成光阻图案潜像;使光阻膜显影以形成光阻图案;蚀刻该成膜材料层以形成一对应于光阻图案的图案层;及烘烤图案层以形成一构成元件,选自于障壁、电极、电阻、介电层、磷光体、滤色器和黑矩阵。10.一种电浆显示板之制造方法,包括步骤为:将如申请专利范围第2项之含无机粒子之组成物所形成的成膜材料层移转至基片的表面;在所移转的成膜材料层上形成一光阻膜;使光阻膜曝光以形成光阻图案潜像;使光阻膜显影以形成光阻图案;蚀刻该成膜材料层以形成一对应于光阻图案的图案层;及烘烤图案层以形成电极。11.一种电浆显示板之制造方法,包括步骤为:依指定的顺序在基础膜上形成一种积层膜,该积层膜由一光阻膜及一如申请专利范围第1项之含无机粒子之组成物所形成的成膜材料层所构成;将基础膜上所形成的积层膜移转至基片的表面;使构成积层膜的光阻膜曝光以形成光阻图案潜像;使光阻膜显影以形成光阻图案;蚀刻该成膜材料层以形成一对应于光阻图案的图案层;及烘烤图案层以形成一种构成元件,选自于障壁、电极、电阻、介电层、磷光体、滤色器及黑矩阵。12.一种电浆显示板之制造方法,包括步骤为:依指定的顺序在基础膜上形成一种积层膜,该积层膜由一光阻膜及一如申请专利范围第2项之含无机粒子之组成物所形成的成膜材料层所构成;将基础膜上所形成的积层膜移转至基片的表面;使构成积层膜的光阻膜曝光以形成光阻图案潜像;使光阻膜显影以形成光阻图案;蚀刻该成膜材料层以形成一对应于光阻图案的图案层;及烘烤图案层以形成电极。图式简单说明:第一图系典型地显示一种AC电浆显示板之剖面;第二图(a)系本发明之移转膜的示意剖视图,而第二图(b)系移转膜之层结构的剖视图;第三图系本发明之制造方法中障壁形成方法(移转步骤,光阻膜形成步骤及曝光步骤)的一实施例之示意剖视图;第四图系本发明之制造方法中障壁形成方法(显影步骤、蚀刻步骤及烘烤步骤)的一实施例之示意剖视图。 |
