发明名称 钻头套置定位环的装置之改良
摘要 一种钻头套置定位环的装置之改良,主要系包括:一机台,二步进导料机构,二定位环整列装置,二钻头进给构成,一推杆机构,二感测微调机构,二下料导排机构,一操控装置等部份所构成者。其中该机台容置各组件,由该操控装置预设的顺序操作,使该二定位环整列装置和二钻头进给构成逐一的供给该二步进导料机构各转轮钻头和定位环,能交错动作的步进到该推杆机构往复运动轴线定位点程序作动,使该二感测微调机构感知该推杆机构操作的挤压钻头套或卸套或再校正定位环的位置后,顺序操作该二步进导料机构各转轮步进运动,由该二下料导排机构架承接排列该钻头和定位环套置完成品者。
申请公布号 TW447349 申请公布日期 2001.07.21
申请号 TW089211638 申请日期 2000.07.06
申请人 宏科技有限公司;刘木煌 台北县树林镇俊英街一二五巷十一号四楼 发明人 康昇苑;刘木煌
分类号 B23B49/04 主分类号 B23B49/04
代理机构 代理人
主权项 1.一种钻头套置定位环的装置之改良,系包括:一机台,容置各组件者;二步进导料机构,其二转轮各枢持于该机台座两侧的支架组上分设一步进动力器传动,且该各转轮的轮面轴向等份的各挖设放置钻头的数开口导槽,及于该各开口导槽轴线上适当位置各挖设有放置定位环的一内凹置穴和一外凹置穴,并垂直该开口导槽于该各凹置穴二侧的轮面上各挖设一下料环沟者;二定位环整列装置,固设在该机台座板上,其出料口分别正对邻接该二步进导料机构各转轮外凹置穴回转轨道的一步进定位点者;二钻头进给构成,其二槽板固设斜置在该机台座板上,于各槽面各挖设一微大于定位环厚度的导行沟,使该各导行沟低处开口正对邻接该二步进导料机构各转轮上的内凹置穴回转轨迹的一步进定位点者;一推杆机构,其支座组介设于该二步进导料机构间,一滑动块滑置在该支座组固设的导杆上,及一螺杆连接一动力器旋穿合传动该滑动块往复运动,并于该滑动块上顶部连设一杆轴,该杆轴两端可拆装的各固设一推杆,使滑持正对该二步进导料机构各转轮开口导槽的一步进定位点者;二感测微调机构,邻设于该二步进导料机构各转轮外侧端面,使弹性的定置于该二步进导料机构的转轮开口导槽的一步进定位点上,和该推杆机构两推杆的运动轴线相对,而分别的位置于二转轮的两端面侧适当间距者;二下料导排机构,邻接斜置于该二步进导料机构两转轮挤压钻头套置定位环的次一步进定位点的下方,各以一下料导板和一排料架承接排列该钻头和定位环套置完成品者;一操控装置,连接操控各组件顺序动作,使往复运动的挤压动作皆能操作该钻头和定位环的套置或卸套或再校正钻头刃尖一定的长度者。2.如申请专利范围第1项所述的钻头套置定位环的装置之改良,其中该推杆机构杆轴两端套置的推杆往复运动,系于该二步进导料机构的二转轮停止步进状态时开始动作,当一端推杆完全离开其侧的转轮后,该侧转轮即步进回转操作卸料和供料到位,而另端插入的动作则进行钻头和定位环的套置或卸套或再校正的操作者。3.如申请专利范围第1项所述的钻头套置定位环的装置之改良,其中该推杆机构杆轴两端套置的推杆正对该二步进导料机构二转轮的步进定位点是位在该钻头和定位环入料的回转后方者。4.如申请专利范围第1项所述的钻头套置定位环的装置之改良,其中该二感测微调机构系包括:一支座固设在机台座板上者;一滑板滑设于该支座上者;一伸张弹簧常时顶置该滑板的一侧者;一微调螺丝旋置于该支座上顶持着该滑板顶置该伸张弹簧的另侧者;一量测器具,和该微调螺丝同侧穿置于该支座上,常时的顶触该滑板者;及一套筒,固设该滑板下弹性的滑持一触推杆,使该触推杆前端弹性的适当间距的定置于该二步进导料机构的转轮开口导槽的一步进定位点上,和该推杆机构两推杆的运动轴线相对,而分别的位置于该二转轮的两端面侧,操作的感测该钻头套置定位环作动刃尖碰触,以操控推杆机构挤压钻头的套置位置和反向操作者。5.如申请专利范围第4项所述的钻头套置定位环的装置之改良,其中该二感测微调机构弹性滑持于套筒内的该触推杆的后端系常时触通一接点及邻设一电激磁器,于操作的该触推杆受推杆挤压移动的钻头刃尖触压断离该接点,以该接点断电信号操控该推杆停止挤压移动,并反向操作另侧的推杆插入其同侧停止步进回转的步进导料机构转轮开口导槽内挤压钻头套置定位环的行程,及导通该电激磁器磁吸该触推杆的前端离隙该钻头者。6.如申请专利范围第1项所述的钻头套置定位环的装置之改良,其中该二下料导排机构的二下料导板系正对斜置于该二步进导料机构两转轮于该推杆机构推杆挤压钻头套置定位环的次一步进定位点的下方,并对应该两转轮的下料环沟和定位环内外凹置穴的回转轨道,于该各下料导板上伸设同数的叉条和挖设同数的导行沟,以承接该二步进导料机构两转轮的步进送料者。7.如申请专利范围第1项所述的钻头套置定位环的装置之改良,其中该二下料导排机构二排料架垂直的各穿设一微大于钻头柄部直径的料槽,使邻接于该二下料导板低部边缘,并正对该各下料导板的宽度于该排料架料槽顶面挖设一小于定位环外径的斜面槽,使二下料导板承接的钻头柄部易由斜面槽置入料槽内,而定位环托置于该排料架顶面者。8.如申请专利范围第7项所述的钻头套置定位环的装置之改良,其中该于下料导排机构的两排料架底部滑持一连动杆连设于该推杆机构的滑动块,其两端各连设一推料杆滑置于两排料架顶面邻近该二下料导板的低部边缘,使操作的一端推料杆推行前一下料的钻头组合定位环和移置于该二下料导板低部边缘挡止下料,而另端推料杆则完全离开的让出下料空间者。9.如申请专利范围第7项所述的钻头套置定位环的装置之改良,其中该二下料,导排机构的两排料架料槽的尾端各固设一感测器,以测知排料架内满置时的停车操作者。图式简单说明:第一图系微小径钻头一长度套置定位环的简单示意图。第二图系微小径钻头另一长度套置定位环的简单示意图。第三图系本创作的上视剖面示意图。第四图系本创作的正面剖面示意图。第五图系第四图的I-I方向的剖示图。第六图系第四图的II-II方向的剖示图。第七图系第四图的III-III方向的剖示图。第八图系第四图的IV-IV方向的剖示图。第九图系本创作定位环挤压操作的侧视剖面示意图。第十图系本创作测量和微调机构的正面放大剖示图。第十一图系第十图的上视示意图。第十二图系第十图的侧视的剖面示意图。第十三图系本创作下料导轨的正面示意图。第十四图系第十三图的上视部份简单示意图。
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