| 主权项 |
1.一种热模类型之光学资讯记录媒体,于基板(202)包含一一记录层(204)其可藉照射雷射束记录资讯,其中:该记录层(204)系使用具有比电阻不低于0.15百万欧姆之水湿润用于形成记录层(204)之制程气氛而于基板(202)上形成。2.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中于制程气氛之相对湿度设定为30%至60%。3.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中施用染料至基板(202)而形成光反射层(208)为薄膜形成之时间为15分钟至4小时。4.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中供给基板之空气流速系由供给制程气氛之空气以及由制程气氛排放之空气组成设定为不超过0.8米/秒。5.一种制造热膜类型的光学资讯记录媒体之方法,该媒体包含于基板(202)上有一层记录层(204)其可藉照射雷射束记录资讯,该方法包含下列步骤:经由使用具有比电阻不低于0.15百万欧姆之水湿润用于形成记录层(204)之制程气氛而于基板(202)上形成记录层(204)。6.如申请专利范围第5项之方法,其中于制程气氛之相对湿度设定为30%至60%而于基板(202)上形成记录层(204)。7.如申请专利范围第5项之方法,其中施用染料至基板(202)形成光反射层(208)呈薄膜形成所需时间间期为15分钟至4小时。8.如申请专利范围第5项之方法,其中供给基板(202)之空气,其系由供给制程气氛之空气及由制程气氛排放之空气组成,该空气流速设定为不高于0.8米/秒而于基板(202)上形成记录层(204)。9.一种生产热模类型之光学资讯记录媒体之方法,包含于基板(202)上有一记录层(204)其可藉照射雷射束记录资讯,该方法包含下述步骤:施用溶液而于基板(202)上形成记录层(204)同时旋转基板(202),其中该溶液施用于基板(202)之内周缘部时基板(202)之转数增高。10.如申请专利范围第9项之方法,其中该溶液系施用至基板(202)之内周缘部,基板(202)之转数比较基板(202)于施用起点之转数增高约2倍。11.如申请专利范围第9项之方法,其中该基板(202)施用面之空调风速设定为不超过约0.4米/秒。12.一种生产光学资讯记录媒体之空调系统,包含:一超纵座标泄放管线(520)用于执行热模类型光学资讯记录媒体之生产设备(14)之空气排放,该媒体包含于基板(202)上至少一记录层(204)其可以雷射光束照射记录资讯;及一次泄放管线(502)用于执行构成该设备(14)之至少一处理区段(32)之空气排放;超纵座标泄放管线(520)之次泄放管线(502)系透过气密缓冲器单元(500)彼此连结,其中:该超纵座标泄放管线(520)之排气管(524)系于缓冲器单元内部与次泄放管线(502)之排气管(426)分开。13.一种生产光学资讯记录媒体之空调系统,包含:一空调机(302)用于进给洁净空气(ca)至热模类型光学资讯记录媒体之生产设备(14),该媒体包含于基板(202)上有一层记录层其可以雷射束照射记录资讯,该设备(14)包括三或多个处理区段(30,32,34),其中该系统进一步包含:进气量控制装置用于控制由空调机(302)进给设备(14)之空气量,使设置于设备(14)中部之至少一处理区段(32)之气氛压力系高于设置于设备(14)周边部份之复数处理区段(30,34)之气氛压力。14.如申请专利范围第13项之空调系统,其中该进气量控制装置包括复数方向控制板(342a至342d,344a至344d)设置于由空调机(302)至设备(14)之空气供应通道上。15.如申请专利范围第13项之空调系统,其中该进气量控制装置包括分隔板(70,72)架设于设置于设备(14)中部之至少一处理区段(32)与设置与设备(14)周边部之复数处理区段(30,34)间。16.一种生产光学资讯记号媒体且之空调系统,包含:一除湿装置(304)用于处理及除湿空气获得一次空气(al);一湿化装置(332a,332b)用于处理及湿化至少一次空气(al)获得二次空气(a2);及一进气装置(334a至334d)用以供给二次空气(a2)至热模类型光学资讯记录媒体(D)之生产设备(14),该媒体包含于基板(202)上一记录层(204)可藉照射雷射束记录资讯,其中:具有比电阻不小于0.15百万欧姆之水用作湿化装置(332a,332b)之湿润来源(336)。17.如申请专利范围第16项之空调系统,其中该除湿装置(304)系引进外部空气(ea)进行除湿。18.如申请专利范围第16项之空调系统,其进一步包含:一混合装置(330)用于引进来自设备(14)之排放空气(ra)而与一次空气(a1)混合,其中:该湿化装置(332a,332b)处理及湿化来自混合装置(330)之混合空气(ha)获得二次空气(a2)。19.如申请专利范围第18项之空调系统,其进一步包含:至少二设备(14)之泄放管线,其中:第一泄放管线(322)系连结至混合装置(330);第二泄放管线(502)系透过气密缓冲器单元(500)连结至超纵座标泄放管线(520)而监视该设备(14);及超纵座标泄放管线(520)之排气管(524)系于缓冲器单元(500)与第二泄放管线(502)之排气管(426)分开。20.如申请专利范围第16项之空调系统,其中该进气装置(334a至334d)包括进气量控制装置用于控制进给设备(334)之空气量,使设置于设备(14)中部之至少一处理区段(32)之气氛压力系高于设置于设备(14)周边部份之复数处理区段(30,34)之气氛压力。21.如申请专利范围第20项之空调系统,其中该进气量控制装置包括复数方向控制板(342a至342d,344a至344d)设置于至设备(14)之空气供应通道上。22.如申请专利范围第20项之空调系统,其中该进气量控制装置包括分隔板(70,72)架设于设置于设备(14)中部之至少一处理区段(32)与设置于设备(14)周边部之复数处理区段(30,34)间。图式简单说明:第一图显示配置图说明根据本发明之一具体例之生产系统实例;第二图显示配置图说明架设于用于施用设备之旋涂装置;第三图显示透视图说明架设于用于施用设备之旋涂装置;第四图显示平面图说明旋涂装置之喷嘴;第五图显示侧视图说明旋涂装置之喷嘴之实例;第六图显示放大剖面图,部份删除,说明旋涂装置之喷嘴之另一例;第七图显示平面图说明空调系统;第八图显示前视图说明空调系统;第九图显示侧视图说明空调系统;第十图显示空调系统之泄放装置连同超纵座标泄放管线之配置图;第十一图显示剖面图说明安装用于泄放装置之缓冲器座之配置;第十二图显示方块图说明空调机之配置;第十三图A显示一步骤说明沟槽形成于基板之状态;第十三图B显示一步骤说明染料记录层形成于基板之状态;第十三图C显示一步骤说明光反射层形成于基板之状态;第十四图A显示一步骤说明基板缘部洗涤状态;第十四图B显示一步骤说明保护层形成于基板之状态;第十五图显示方块图说明有关本发明之具体例之生产系统,当染料液施用于基板时之基板时之处理程序步骤:第十六图显示配置图说明根据本发明之具体例之另一生产系统实例;第十七图显示一表说明于一第一实验例所得结果;及第十八图显示一表说明于第二实验例所得结果。 |
