发明名称 | 一种制备氧化物陶瓷涂层的阴极微弧电沉积方法 | ||
摘要 | 本发明涉及表面涂层涂覆技术,提出一种制备氧化物陶瓷涂层的阴极微弧电沉积方法。首先在试样表面预制一层绝缘薄膜,然后在金属盐的无水乙醇或水或含水的乙醇溶液中,试样作为阴极,通过计算机连续控制脉冲电压和时间,进行电沉积。本发明不仅可以获得单一金属氧化物、复合金属氧化物陶瓷涂层,而且可以获得不同成分的多层和成分梯度的金属氧化物陶瓷涂层,并且操作工艺简单,易于自动化。 | ||
申请公布号 | CN1327091A | 申请公布日期 | 2001.12.19 |
申请号 | CN01118541.4 | 申请日期 | 2001.05.31 |
申请人 | 北京科技大学 | 发明人 | 何业东;杨晓战;王德仁 |
分类号 | C25D9/08 | 主分类号 | C25D9/08 |
代理机构 | 北京科技大学专利代理事务所 | 代理人 | 杨玲莉 |
主权项 | 1、一种制备氧化物陶瓷涂层的阴极微弧电沉积方法,其特征在于,将试样加热到400-1000℃,取出后迅速浸入0.05-0.3M金属盐水溶液中,待试样冷却后取出并吹干,循环操作10-30次,再将金属盐溶于无水乙醇或水或含水的乙醇溶液中,配制成浓度为0.01-0.2M的溶液作为电解液,将预制了薄膜的试样作为阴极,对试样施加脉冲电压,沉积1-12小时后将试样取出,干燥后在惰性气氛中于500-1000℃下加热30-120分钟。 | ||
地址 | 100083北京市学院路30号 |