| 发明名称 |
WAFER PROCESSING REACTOR HAVING A GAS FLOW CONTROL SYSTEM AND METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IL144696(D0) |
申请公布日期 |
2002.06.30 |
| 申请号 |
IL20000144696 |
申请日期 |
2000.02.01 |
| 申请人 |
SILICON VALLEY GROUP THERMAL SYSTEMS, LLC |
发明人 |
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| 分类号 |
B01J19/00;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/52;H01L21/205;H01L21/31;(IPC1-7):C23C |
主分类号 |
B01J19/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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