| 主权项 |
1.一种曝气盘双重止逆结构,其中该曝气盘系设有一可衔接氧气缘由输气孔输出气体之基盘,并使该基盘之输气口上方,则罩覆一具有数个气泡孔之包覆胶体,而该基盘表面并再铺设固定一弹性胶盘,使该弹性胶盘异于包覆胶体之位置处,则穿设有多数气泡孔。2.如申请专利范围第1项所述之曝气盘双重止逆结构,其中该包覆胶体系可先包覆于一定位座之表面,该定位座系螺锁于基盘之顶面,并使该定位座之中央贯穿一出气孔与基盘之输气孔形成连通者。3.如申请专利范围第2项所述之曝气盘双重止逆结构,其中该基盘顶面中央系凹设一螺孔,并使定位座之底面,则凸伸一可螺入于该基盘螺孔之螺柱,并使基盘顶面位于该螺孔之外缘,则又凹设一恰可供包覆胶体周缘嵌入时形成密合之嵌凹槽。4.如申请专利范围第2项所述之曝气盘双重止逆结构,其中该包覆胶体相对于定位座之出气孔位置,系朝出气孔凸设出一可气密阻塞于出气孔之止塞部。5.如申请专利范围第2项所述之曝气盘双重止逆结构,其中该定位座之顶面边缘系凹设一环状定位槽,并使包覆胶体相对于定位座之定位槽位置,系凸设出一可嵌入于该定位槽之定位凸环。6.如申请专利范围第1项所述之曝气盘双重止逆结构,其中该基盘之外侧缘系形成一外螺绞,并使该基盘外螺纹可供一中空螺压环之内螺孔螺合,该螺压环之内螺孔顶缘,则延伸可压制弹性胶盘定位之压制缘。7.如申请专利范围第6项所述之改良式曝气盘,其中该基盘之顶面边缘处,系凹设有一环状之卡嵌槽,并使弹性胶盘相对于基盘卡嵌槽之位置,则向下凸伸可嵌入卡嵌槽内定位之卡嵌凸缘。8.如申请专利范围第6或7项所述之改良式曝气盘,其中该弹性胶盘之顶面,系凸设一可供螺压环之压制缘压制定位之压制凸缘。图式简单说明:第一图:系本创作较佳实施例之立体分解示意图。第二图:系本创作较佳实施例之纵向剖面图。第三图:系本创作较佳实施例之局部剖面示意图。第四图:系本创作较佳实施例作动时之纵向剖面示意图。 |
