发明名称 Apparatus for rapid thermal process
摘要 <p>석영판(30)의 위부분을 덮는 챔버덮개(20)의 내측면에는 서로 다른 직경을 가지는 복수개의 환형 홈이 형성되고 상기 홈 윗면에는 홈을 따라 복수개의 구멍이 외부와 연결되도록 형성된다. 적외선 램프(60)는 각각의 상기 구멍에 대응하면서 이들과 인접하여 상기 홈 내에 복수개 설치된다. 상기 홈의 측벽 내부에는 수냉관(80)이 설치된다. 금속관(120)은 상기 홈에 대응되도록 서로 다른 직경을 가지는 복수개의 환형관으로 이루어지되 서로 연결되어 일체형을 이루어 챔버덮개(20)의 윗부분에 설치되어 공냉에 기여한다. 본 발명에 의하면, 공냉과 수냉방법에 의하여 가열부를 효과적으로 냉각시킬 수 있기 때문에 반사판(70) 및 석영판(30)이 열적으로 손상받는 것을 방지할 수 있다. 뿐만 아니라, 그 각각의 냉각 과정이 원활하게 진행되고 있는지 제어기를 통해 자동 감시함으로써 급속열처리공정을 보다 효과적으로 진행할 수 있게 된다.</p>
申请公布号 KR100346569(B1) 申请公布日期 2002.08.03
申请号 KR19990049400 申请日期 1999.11.09
申请人 코닉 시스템 주식회사 发明人 정광일;남원식;최용정
分类号 H01L21/324;C21D1/00 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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