发明名称 Apparatus for calibrating tilt of wafer of exposure apparatus
摘要 <p>본 발명은 반도체 사진 공정에서 사용되는 노광장치에 장착된 웨이퍼의 기울기를 조정하는 장치에 관한 것으로 반도체 노광장치의 웨이퍼 기울기 조정 장치는 웨이퍼 홀더가 조립 장착되는 상측 스테이지와, 상측 스테이지와 소정 간격으로 이격 설치되는 하측 스테이지와, 상측 스테이지와 하측 스테이지 사이에 조립 장착되어 외부에서 공급되는 전기량에 비례하여 길이가 변화되어 상측 스테이지의 기울기를 변화시키는 압전부재로 구성하여 전기량에 비례하여 웨이퍼의 기울기를 미세하게 조정할 수 있으며 노광장치의 웨이퍼 기울기 조정 장치를 단순한 구조로 구성할 수 있도록 하고 있다.</p>
申请公布号 KR100355877(B1) 申请公布日期 2002.10.12
申请号 KR19990068470 申请日期 1999.12.31
申请人 아남반도체 주식회사 发明人 이인호
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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