| 摘要 |
플라즈마 챔버에 있어서 이온 에너지들을 조정하고 기판 지지부에 대해 기판을 척킹하기 위한 시스템, 방법 및 장치가 기재된다. 예시적 방법은, 플라즈마 챔버에 기판을 위치시키는 단계, 상기 플라즈마 챔버에 플라즈마를 형성하는 단계, 기판에 주기적 전압 함수를 인가하도록 기판에 대한 파워를 제어가능하게 스위칭하는 단계, 및 주기적 전압 함수의 다중 사이클들에 걸쳐, 시간 평균 방식으로 소망 이온 에너지 분포를 야기하도록 기판의 표면에서 소망 이온 에너지 분포에 응답하여 주기적 전압 함수를 변조하는 단계를 포함한다. |
