| 主权项 |
1.一种对位装置,用于制造具有复数个绝缘层及绘制有导电图案之复数个导电层之一多层印刷电路板,包括:一光罩,能够配置于形成有一多层电路之一板件的一侧上且绘制出形成于该板件上的导电图案;一板件对位标记,形成于该板件之至少一层上且能够使用一X射线照相;一光罩对位标记,绘制于该光罩上;一X射线产生器,将X射线照射至包括有该板件对位标记的一区域;一移除单元,用于自该X射线产生器之X射线照射范围移除该光罩;一投影构件,能够将X射线转换成可见光、紫外线、或红外线,且受X射线照射之该板件对位标记的一影像将投影至该投影标记;一侦测单元,用于侦测投影至该投影构件之该板件对位标记的位置;一侦测单元,用于在该光罩配置于该板件一侧之状态下,侦测该光罩之光罩对位标记的位置;一移动单元,用于移动该板件与该光罩两者或其中之一,以根据该侦测到之板件对位标记及该光罩对位标记来实施该板件对位标记与该光罩对位标记之定位;及一曝光光源,将绘制于该光罩上之一图案在该定位后曝光。2.如申请专利范围第1项所述之对位装置,尚包括一侦测装置,藉由该板件对位标记及光罩对位标记之位置所获致的位置关系来侦测与先前指定位置的一间隙,其中该移动单元系根据该位置关系之间隙来移动该板件及该光罩两者或其中之一,以实施定位该板件与该光罩。3.如申请专利范围第1项所述之对位装置,尚包括用于记忆该侦测到之板件对位标记位置的一记忆装置,其中该移动单元系根据该记忆之板件对位标记及该侦测到之光罩对位标记来移动该板件及该光罩两者或其中之一。4.如申请专利范围第2项所述之对位装置,尚包括用于记忆该侦测到之板件对位标记位置的一记忆单元,其中该侦测间隙用单元系根据该记忆之板件对位标记与该侦测到之光罩对位标记之间的位置关系来侦测一间隙。5.如申请专利范围第1项所述之对位装置,尚包括用于记忆该板件位置的一记忆单元,以及记忆关于该记忆板件之该侦测到之板件对位标记位置的一记忆单元。6.如申请专利范围第1项所述之对位装置,其中该移动单元系根据关于该记忆之板件及该侦测到之光罩对位标记而记忆的该板件对位标记来移动该板件及该光罩两者或其中之一。7.如申请专利范围第2项所述之对位装置,其中该侦测间隙用单元系根据关于该记忆之板件及该侦测到之光罩对位标记而记忆的该板件对位标记位置关系来侦测一间隙。8.如申请专利范围第1项所述之对位装置,尚包括以影像显示该侦测到之板件对位标记及光罩对位标记的一显示单元,其中该移动单元系移动该板件及该光罩两者或其中之一,使得该侦测到之板件对位标记与该光罩对位标记根据该显示之影像来达成先前决定之位置关系。9.如申请专利范围第8项所述之对位装置,其中该显示用单元系以影像显示关于该记忆之板件及该侦测到之光罩对位标记而记忆的该板件对位标记。10.如申请专利范围第9项所述之对位装置,其中该移动单元系移动该板件及该光罩两者或其中之一,使得显示于该显示用单元处之该板件对位标记与该光罩对位标记的位置关系达成指定位置关系。11.如申请专利范围第1项所述之对位装置,其中该侦测板件对位标记用之单元及该侦测光罩对位标记用之单元系包括一电荷耦合装置(CCD)照相机。12.如申请专利范围第1项所述之对位装置,其中该光罩系一玻璃光罩。13.如申请专利范围第1项所述之对位装置,其中该光罩系将一薄膜基础光罩放置于一玻璃上的一玻璃光罩。图式简单说明:第1图系显示依据本发明之一实施例的一概略立体图;第2图系显示依据本发明之该实施例动作的一概略立体图;第3图系显示依据本发明之该实施例动作的一概略立体图;及第4图系显示依据本发明之该实施例动作的一概略立体图。 |
