发明名称 レジスト閾値制御を使用した電子又は光リソグラフィ用のフリーフォーム断片化方法
摘要 本発明は、外形の定義された粗度のための最小数のショットを得るべく、フリーフォームターゲット設計を基本ショットに断片化するコンピュータ実装された方法を開示している。方法は、ギャップを除いてターゲット設計をペービングするショットの第1の組を判定するステップと、次いで、ギャップを充填又はカバーするためのショットの第2の組を判定するステップと、を含む。ショットの第1及び第2の組内のオーバーラップしたショットの線量レベルは、絶縁されたターゲット上におけるショットの実際のインプリントに影響を及ぼす近接効果を考慮した場合に、複合的な線量が、レジスト閾値に鑑み、十分なものとなるように、判定される。有利には、線量ジオメトリ変調が適用される。有利には、丸いショットプリントは、円形ではないショットによって生成される。ショット及び丸いショットプリントは、オーバーラップしていてもよく、或いは、そうでなくてもよい。オーバーラップの程度は、プリントされた外形と望ましいパターンの外形の間のフィット基準の望ましい最適化の関数として判定されてもよい。ショットの配置及び寸法は、前記プリントされた外形と前記望ましいパターンの外形の間における複数のフィット基準によって判定されてもよい。
申请公布号 JP2016535936(A) 申请公布日期 2016.11.17
申请号 JP20160526828 申请日期 2014.10.27
申请人 アセルタ ナノグラフィクス 发明人 マナクリ,ザーダール;マルタン,リュック
分类号 H01L21/027;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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