发明名称 微影装置
摘要 一种微影投影装置,包含:一辐射系统,供应一辐射投影光束;一光罩平台,装设有光罩夹持器以夹持光罩;一基板平台,装设有基板夹持器以夹持基板;一投影系统,用于将光罩之辐射部分映射于基板之目标部分上;藉此: a)该投影系统系藉由一中介空间与基板平台隔开,该中介空间至少可以部分抽成真空并在投影系统之位置以一实际表面做为界限,所使用之辐射由该实际表面被导向基板平台; b)该中介空间含有一空心管于实际表面与基板平台之间,且位于辐射路线周围,该管的形状与尺寸使得投影系统所聚集于基板平台上之辐射不致于阻挡空心管之内壁; c)装置,用于不断地以气体流冲洗空心管内部。
申请公布号 TW533336 申请公布日期 2003.05.21
申请号 TW088107692 申请日期 1999.05.12
申请人 ASML公司 发明人 丕德威廉荷曼迪佳格;汉里吉拉德卡图威里;比得范苏林
分类号 G03F7/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种微影投影装置,包含:一辐射系统,供应一辐射投影光束;一光罩平台,用以夹持光罩;一基板平台,用以夹持基板;一投影系统,用于将光罩之辐射部分映射于基板之目标部分上;其特征在:a)该投影系统系藉由一中介空间与基板平台隔开,该中介空间至少可以部分抽成真空并在投影系统位置处以一实际表面做为界限,其辐射方向由该实际表面朝向基板平台;b)该中介空间设有一位于实际表面与基板平台之间、且沿着辐射路线周围设置的空心管,该管的形状与尺寸使得投影系统聚焦于基板平台上之辐射不致被空心管一壁阻挡;c)设置冲洗装置用于不断地以气体流冲洗空心管内部。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该空心管呈锥形,其系由实际表面向基板平台之方向向里面逐渐变细。3.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该气体系经由至少管壁中之一个开口导入空心管中。4.如申请专利范围第3项之装置,其中该开口系一个所使用气体可以通过之管壁区域。5.如申请专利范围第1项之装置,其中冲洗装置之构造使得空心管之气体流至少一部分被导向基板平台。6.一种装置制造方法,包含下列步骤:-提供一至少一部分被辐射敏感材料层所覆盖之基板;-提供一含有一图形的光罩;-使用一辐射投影光束将至少一部分光罩图形之影像投影于辐射敏感材料层之目标区域上,其所使用装置包含:-一供应辐射投影光束之辐射系统;-一光罩平台,用于夹持一光罩;-一基板平台,用于夹持一基板;-一投影系统,用于将光罩之被辐射部分映射于基板之目标部分上;该方法之特征为:a)提供一由中介空间与基板平台隔开之投影系统,该中介空间至少可以部分抽成真空及藉由一实际面导向基板平台;b)提供一中介空间,其含有一空心管于实际表面与基板平台之间,且位于辐射路线周围,该管的形状与尺寸使得投影系统所聚集于基板平台上之辐射不至于阻挡空心管之内壁;c)使用气体流不断地冲洗空心管内部。7.一种根据申请专利范围第6项所制造之装置。图式简单说明:图1表示适用于本发明之微影投影装置之示意图。图2表示图1所示之装置之一部分之剖面图,并表示本发明如何依照特别具体例使用本发明。
地址 荷兰