发明名称 LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD
摘要 본 발명은 컵에 부착된 오물에 의하여 처리실 내의 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있는 액 처리 장치 및 액 처리 방법을 제공한다. 본 발명의 액 처리 장치(10)는, 기판(W)을 유지하는 기판 유지부(21) 및 기판 유지부(21)의 주위에 배치되는 컵(42)이 내부에 설치된 처리실(20)과, 기판 유지부(21)에 유지된 기판(W)에 대하여 처리액을 공급하기 위한 노즐(82a)과, 컵(42)의 상부에 세정액을 공급함으로써 해당 컵(42)을 세정하는 컵 세정부(49, 49a)를 구비하고 있다. 컵(42)의 상부에는 오목부(42a)가 형성되어 있고, 컵 세정부(49, 49a)는, 컵(42)의 상부의 오목부(42a)에 세정액을 공급하도록 되어 있다.
申请公布号 KR101678231(B1) 申请公布日期 2016.11.21
申请号 KR20110135101 申请日期 2011.12.15
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 히가시지마 지로;가가와 고지;미조타 쇼고
分类号 H01L21/67;H01L21/02;H01L21/687 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人
主权项
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