SYSTEMS AND METHODS FOR USING MULTIPLE INDUCTIVE AND CAPACITIVE FIXTURES FOR APPLYING A VARIETY OF PLASMA CONDITIONS TO DETERMINE A MATCH NETWORK MODEL

摘要

매칭 네트워크 모델의 고정된 파라미터들을 결정하도록 다양한 플라즈마 조건들을 적용하기 위해 복수의 유도성 픽스처 및 용량성 픽스처를 사용하기 위한 시스템들 및 방법들이 기술된다. 복수의 픽스처들은 웨이퍼가 매칭 네트워크 모델의 고정된 파라미터들을 생성하도록 플라즈마 챔버 내에 배치되는 툴 시간을 점유하지 않고 다양한 플라즈마 조건들을 모방한다.