| 主权项 |
1.一种位置量测装置,系用以量测形成于物体上之标记在既定方向之位置资讯,其特征系具有:照射机构,对前述标记照射检测光束;成像光学系统,藉由前述检测光束的照射,而将自前述标记所产生的标记像成像于成像面上;及摄影机构,对前述成像面上的前述标记像,边沿扫描线扫描边摄影,而产生相当于前述标记像的影像资讯;及运算机构,依据前述影像资讯,而求得前述标记在前述既定方向之位置资讯;前述扫描线的扫描方向系与前述既定方向正交。2.如申请专利范围第1项之位置量测装置,其中,进一步具有记忆机构,用以记忆前述影像资讯;前述运算机构系依据记忆于前述记忆机构的前述影像资讯,而运算前述标记之位置资讯。3.如申请专利范围第1项或第2项之位置量测装置,其中,前述摄影机构系可相对于前述标记像旋转,俾使前述扫描线的方向与前述既定方向正交。4.如申请专利范围第1项之位置量测装置,其中,前述标记包含:第1标记,沿第1方向具有周期性;及第2标记,沿与前述第1方向正交的第2方向具有周期性;前述摄影机构包含:第1摄影机构,沿与前述第1方向正交的方向延伸的扫描线所构成;及第2摄影机构,沿与前述第2方向正交的方向延伸的扫描线所构成。5.如申请专利范围第4项之位置量测装置,其中,前述运算机构系依据来自前述第1摄影机构所得的影像资讯,而求得前述第1标记在前述第1方向的位置资讯,且依据来自前述第2摄影机构所得的影像资讯,而求得前述第2标记在前述第2方向的位置资讯。6.如申请专利范围第4项或第5项之位置量测装置,其中具有:分歧机构,将前述标记像分歧为前述第1标记像与前述第2标记像,并将前述第1标记像导引至前述第1摄影机构,而将前述第2标记像导引至前述第2摄影机构;第1记忆机构,记忆自前述第1摄影机构所得的影像资讯;及第2记忆机构,记忆自前述第2摄影机构所得的影像资讯。7.一种位置量测装置,系用以量测形成于物体上之标记在既定方向之位置资讯,其特征系具有:照射机构,对前述标记照射检测光束;成像光学系统,藉由前述检测光束的照射,而将自前述标记所产生的标记像成像于成像面上;及摄影机构,对前述成像面上的前述标记像,边沿扫描线扫描边摄影,而产生相当于前述标记像的影像资讯;及运算机构,依据前述影像资讯,而求得沿前述标记之前述既定方向之位置资讯;前述摄影机构系对前述标记像,边沿前述既定方向扫描前述扫描线边摄影前述标记像而产生第1影像资讯的同时,亦对该标记像,边沿与该扫描方向相反方向进行扫描边摄影前述标记像而产生第2影像资讯;前述运算机构系依据第1.第2影像资讯而求得前述位置资讯。8.如申请专利范围第7项之位置量测装置,前述摄影机构系可相对于前述标记像旋转。9.如申请专利范围第7项之位置量测装置,其中,前述摄影机构包含有复数之扫描线,第1扫描线系边对前述标记像沿前述既定方向扫描边摄影前述标记像,异于前述第1扫描线的第2扫描线,系边对前述标记像沿前述相反方向扫描边摄影前述标记像。10.一种曝光装置,其特征为具有对准机构,系依据申请专利范围第1项至第9项中任一项之位置量测装置所量测的基板上的标记之位置资讯,而将前述基板对准;在前述对准后之前述基板上,进行既定图案之曝光。图式简单说明:第1图系表示本发明之一实施形态之曝光装置的概略构成图。第2图系表示本发明之一实施形态之位置量测装置所具有之对准感测器14之构成图。第3图中,(a)系表示视野分割光圈103之一例的截面图;(b)系表示遮光板33之一例之图。第4图系用以说明对准感测器14之晶圆上的照明领域之图。第5图系表示相对于对准标记AM之像之摄影元件32的摄影面F1之配置关系图。第6图系表示对准信号处理系统18之内部构成概略之方块图。第7图系表示本发明之另一实施形态之位置量测装置所具有之对准感测器14之构成图。第8图系本实施形态所使用之对准标记AM1之俯视图。第9图系表示相对于对准标记AM1之像之摄影元件32的摄影面F2及摄影元件51的摄影面F3之配置关系图。第10图系表示对准感测器14为在第9图所示之情形下之对准信号处理系统18之内部构成概略之方块图。第11图系使用本发明之一实施形态之曝光装置以生产装置时之流程图。第12图系表示用于位置量测之基板上所形成之标记之一例之图。第13图系说明以FIA方式之对准感测器进行位置资讯量测处理之图。第14图系以摄影元件转换第13图所示之标记要素之像110.111.112而得之影像资讯,并以不同之放大率所放大之结果的示例图。第15图系说明位置资讯运算部41之运算形态之一例之图。 |
