发明名称 薄膜之制造方法及制造装置
摘要 用以保持第1薄膜材料之电子束蒸发源(42)、用以放出使第1薄膜材料加热蒸发之电子束(45)之电子束蒸发源(44)、及用以将第2薄膜材料以电阻加热法做加热蒸发之电阻加热蒸发源(48),系以电子束(45)可通过第2薄膜材料之蒸气流中的方式来配置。藉此,可将第2薄膜材料之蒸发原子离子化。其结果,可改善所形成薄膜之特性,可提高其机械强度。又因为不需要新装置以使第2薄膜材料之蒸发原子离子化,故不会有构成复杂化、成本上升之情事。
申请公布号 TW200304498 申请公布日期 2003.10.01
申请号 TW092106748 申请日期 2003.03.26
申请人 松下电器产业股份有限公司 发明人 本田和义;高井赖子;冈崎祯之;稻叶纯一;伊藤修二;口洋;酒井仁
分类号 C23C14/24 主分类号 C23C14/24
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本