微影装置及装置之制造方法

摘要

本发明关于一种用来测量在一微影装置之一投影系统内的光学元件位置的位移测量系统。该位移测量系统运用干涉测量原理，其中涉及一安装在光学元件上之第一绕射光栅和一安装在一参考框架上之第二绕射光栅的使用。