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经营范围
发明名称
负型光阻组成物
摘要
提供对于硷性显像液难泡胀的负型光阻组成物。含有经由照射放射线而发生酸的化合物(A)、和经由酸之作用而对于硷性溶液变化成不溶性的树脂成分(B)之可硷性显像的负型光阻组成物,该(B)成分为含有(b1)经由该(A)成分所发生之酸之作用形成内酯,成为对于硷性溶液不溶性的单位、及(b2)具有醇性羟基之单位之树脂成分的负型光阻组成物。
申请公布号
TW200307852
申请公布日期
2003.12.16
申请号
TW092114042
申请日期
2003.05.23
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
高须亮一;宫入美和;岩下淳;立川俊和
分类号
G03F7/038
主分类号
G03F7/038
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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