发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 一种基板处理装置,具有:处理槽(10),用于在保持于其内的电镀溶液(Q)中电镀基板(w);封盖(40),用于选择性地开启与密闭处理槽(10)的开口(11);喷洒喷嘴(60),安装于封盖(40)上表面;以及基板夹头(80),用于吸引基板(W)反面以保持该基板(W)。在封盖(40)由处理槽(10)开口(11)移开的状态下,将基板夹头(80)降低而使基板(W)浸入于电镀溶液(Q)中,以电镀该基板(W)。当基板夹头(80)升高并以封盖(40)密闭处理槽(10)开口(11)时,以喷洗喷嘴(60)清洗基板(W)。
申请公布号 TW200402785 申请公布日期 2004.02.16
申请号 TW092114997 申请日期 2003.06.03
申请人 荏原制作所股份有限公司 发明人 胜冈诚司;关本雅彦;渡边辉行;小川贵弘;小林贤一;宫崎充;本岛靖之;横山俊夫
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本