于沉浸期间调节施于一基板之电源之设备与方法

摘要

一种用以于沉浸制程中，提供均匀电流密度至基材的沉浸表面的方法与设备。该方法包含步骤有：决定于沉浸制程中，沉浸部份之随时间变化的区域，及于沉浸制程中，供给一时变电流至基材，其中该时变电流系成比例于该时变区域并被架构以提供一定电流密度给基材的沉浸部份。