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经营范围
发明名称
用于互补式金氧半导体场效应电晶体之金属间隙壁闸门
摘要
一种金氧半导体电晶体的方法及结构,包含一底材、一位于底材内之井区、位于底材之井区之相反侧之源极及汲极区域、一覆于底材之井区之闸绝缘体、一覆于闸绝缘体之多晶矽闸导体,以及一位于闸导体侧壁之金属间隙壁。
申请公布号
TW200406047
申请公布日期
2004.04.16
申请号
TW092124579
申请日期
2003.09.05
申请人
国际商业机器股份有限公司
发明人
卡布罗二世 西瑞尔;克莱芬哲;许;薛帕二世;王 光翰
分类号
H01L21/8238
主分类号
H01L21/8238
代理机构
代理人
蔡玉玲
主权项
地址
美国
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