发明名称 装置及其制造方法,以及具备该装置的电子机器
摘要 本发明是有关一种可使形成于下层要件上的机能性膜形成平坦且均一的厚度,藉此来提高机能性膜的机能之装置及其制造方法,以及电子机器。亦即,在基板23、24上形成下层要件之基体的下层要件上形成机能性膜36、38、40之装置20。在下层要件上设有:对供以形成机能性膜36、38、40的液状形成材料具有亲液性的亲液膜15、16、17,且于该等亲液膜15、16、17上设有机能性膜36、38、40。
申请公布号 TW200409181 申请公布日期 2004.06.01
申请号 TW092127977 申请日期 2003.10.08
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 高木宪一;十河智彦;齐藤佑司
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本