浮动闸极的形成方法

摘要

本发明提供一种浮动闸极的形成方法，首先，提供一半导体基底，半导体基底上依序形成有一闸极介电层、一导电层、一第一绝缘层及一具有开口之图案化罩幕层，开口露出该第一绝缘层之表面；接着，以图案化罩幕层为蚀刻罩幕，依序蚀刻第一绝缘层及该导电层以形成一底角圆化之凹槽，并去除图案化罩幕层；然后，于底角圆化之凹槽内形成一第二绝缘层，及以第二绝缘层为蚀刻罩幕，依序去除第一绝缘层及未被第二绝缘层覆盖之导电层，以留下被第二绝缘层覆盖之导电层作为一浮动闸极。