固定晶圆沈浸角度之倾斜式电化学电镀槽

摘要

一种沉浸基板以进行电镀操作之方法与装置。该装置通常包含一含有电镀液之电镀槽。该电镀槽包含至少一流体槽；一扩散板，位于该至少一流体槽之低处；一阳极，位于该扩散板之下方，该阳极与该扩散板互相平行，且与水平面成一倾斜角。该装置更包含一接头组，接近于电镀槽，该接头组包含一基座元件；一促动器，位于该基座之末端；以及一基板支撑组，与该促动器呈机械连动，该基板支撑组系用以支撑该基板于至少一流体槽中，以于与扩散板平行方向上进行处理。