发明名称 一种具高细胞元密度之沟渠式高功率半导体元件及制造方法
摘要 一种具高细胞元密度之沟渠式高功率半导体元件及制造方法,该高功率半导体元件至少包含一基材、基体区与一横跨此基体区之沟渠式闸极结构,其中此基体区系由两极性相反之磊晶层所组成,且于其中形成有高功率半导体元件之源极区,而此闸极结构之上表面覆盖有一氮化矽层,用以阻隔此闸极结构与后续成长之金属层发生电性连接。
申请公布号 TW200418128 申请公布日期 2004.09.16
申请号 TW092104858 申请日期 2003.03.06
申请人 富鼎先进电子股份有限公司 发明人 黄林锺;俞克裕
分类号 H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市埔顶路九十九巷六号二楼之一