发明名称 | 一种具高细胞元密度之沟渠式高功率半导体元件及制造方法 | ||
摘要 | 一种具高细胞元密度之沟渠式高功率半导体元件及制造方法,该高功率半导体元件至少包含一基材、基体区与一横跨此基体区之沟渠式闸极结构,其中此基体区系由两极性相反之磊晶层所组成,且于其中形成有高功率半导体元件之源极区,而此闸极结构之上表面覆盖有一氮化矽层,用以阻隔此闸极结构与后续成长之金属层发生电性连接。 | ||
申请公布号 | TW200418128 | 申请公布日期 | 2004.09.16 |
申请号 | TW092104858 | 申请日期 | 2003.03.06 |
申请人 | 富鼎先进电子股份有限公司 | 发明人 | 黄林锺;俞克裕 |
分类号 | H01L21/76 | 主分类号 | H01L21/76 |
代理机构 | 代理人 | 蔡坤财 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市埔顶路九十九巷六号二楼之一 |