发明名称 散热结构
摘要 本创作系有关于一种散热结构,系于一下板上凹设有复数条凹槽,并以一邻近于电脑装置内之发热电子元件、且以导热材质所制成之上被接合于下板上,促使凹槽可被密封形成为复数条封闭热管,且每一封闭热管系由对应于发热电子元件之高温区朝向相对低温区延伸,因此,封闭热管可控制发热电子元件之散热传导方向,而可有效均匀分布其温度,进而可有效提升封闭热管之散热效率。此外,下板可一体成形于电脑装置之外壳体上,亦即凹槽系直接形成于外壳体上,促使封闭热管可便于加工以及组装,相对可提高封闭热管之品质。
申请公布号 TWM246697 申请公布日期 2004.10.11
申请号 TW092220894 申请日期 2003.11.26
申请人 大同股份有限公司 发明人 卢峻德
分类号 G06F1/20 主分类号 G06F1/20
代理机构 代理人 吴冠赐 台北市松山区敦化北路一○二号九楼;杨庆隆 台北市松山区敦化北路一○二号九楼;林志鸿 台北市松山区敦化北路一○二号九楼
主权项 1.一种散热结构,系组设于一电脑装置内,该电脑装置包括有一电路板,该电路板上设置有至少一发热电子元件,且该电脑装置内另于邻近该至少一发热电子元件之周边区域形成有至少一高温区,并于该至少一高温区以外之其他区域形成为一相对低温区;其中,该散热结构包括:一上板,其系与该电路板对应平行设置,并包括有一下表面;一下板,包括有一上表面系对应衔接密合于该上板之下表面,其中,该上板、与该下板二者中较邻近该电路板者系由导热材质制成,且该上板之下表面、与该下板之上表面二者中至少其中之一系凹设有复数条凹槽,该等凹槽并分别由该至少一高温区朝向该相对低温区之方向延伸,且该上板、与该下板对应衔接密合使得该等凹槽形成复数条封闭热管;以及一散热流体,系充填于该等封闭热管内。2.如申请专利范围第1项所述之散热结构,其中,该电脑装置更包括有一外壳体,且该外壳体系至少有一部份与该下板一体成形。3.如申请专利范围第1项所述之散热结构,其中,该等凹槽系一体成形于该下板之上表面上。4.如申请专利范围第1项所述之散热结构,其中,该等凹槽系分别由该至少一高温区朝向该相对低温区以发散方式延伸。5.如申请专利范围第1项所述之散热结构,其中,该等凹槽之断面系分别呈一三角形。6.如申请专利范围第1项所述之散热结构,其中,该上板系一铜质导热板,并且邻近但不接触地对应平行于该电路板。7.如申请专利范围第1项所述之散热结构,其中,该电路板系一主机板。8.如申请专利范围第1项所述之散热结构,其中,该至少一发热电子元件包括一中央处理器。9.如申请专利范围第1项所述之散热结构,其中,该散热流体系为一纯水。图式简单说明:图1系本创作第一较佳实施例之立体分解图。图2系本创作第一较佳实施例封闭热管之剖面图。图3系本创作封闭热管不同实施态样之剖面图之一。图4系本创作封闭热管不同实施态样之剖面图之二。图5系本创作封闭热管不同实施态样之俯视图之一。图6系本创作封闭热管不同实施态样之俯视图之二。图7系本创作封闭热管不同实施态样之俯视图之三。图8系本创作第二较佳实施例之剖面图。
地址 台北市中山区中山北路三段二十二号