发明名称 | 光阻去除装置及方法 | ||
摘要 | 本发明揭示一种光阻去除装置及方法,用以去除厚膜光阻。包含:一光阻去除处理槽,用以容纳溶剂及置入整批要处理之晶圆,具有加热装置,出口管线及入口管线;一过滤器及开关,用以滤除小颗粒之光阻,形成A循环;一帮浦,用以抽回过滤之溶剂至处理槽以循环利用溶剂;复数群光阻拦网,每群有复数组多层拦网及开关,每处理一批晶圆,选用其中一组多层拦网路径,多层拦网用以滤除大颗粒之光阻,形成B循环;多层拦网系可抽卸式更换拦网以进行清洗保养;一溶剂储槽,集存已过滤之溶剂,由帮浦抽回送至处理槽以循环利用溶剂;一控制单元,控制处理槽及各开关之运作,纪录已用过之多层拦网。 | ||
申请公布号 | TW200421437 | 申请公布日期 | 2004.10.16 |
申请号 | TW092107425 | 申请日期 | 2003.04.01 |
申请人 | 弘塑科技股份有限公司 | 发明人 | 黎源欣;马俊麒;吴志鸿 |
分类号 | H01L21/027 | 主分类号 | H01L21/027 |
代理机构 | 代理人 | 苏翔 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹县新竹工业区大同路十三号 |