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发明名称
铜制程焊垫结构及其制造方法
摘要
一种铜制程焊垫结构及其制造方法。此铜制程焊垫结构包含第一保护层,第二保护层,以及多个焊垫。第一保护层与第二保护层,系覆盖于半导体基材之最上层铜金属内连线之上,且具有多个开口,使露出最上层铜金属内连线表面。而焊垫形成于第一保护层之开口上方,并与最上层铜金属内连线表面相互连接,且相邻之焊垫彼此之间由第二保护层所隔离。本发明之另一态样,系说明形成上述之铜制程焊垫之制造方法。
申请公布号
TW200426987
申请公布日期
2004.12.01
申请号
TW092130619
申请日期
2003.11.03
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
赖嘉宏;林俊吉;张宗生;曹敏;曾焕棋;李豫华;杨青天
分类号
H01L21/768
主分类号
H01L21/768
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
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