用于移除光阻与残留物之超临界流体中的四级有机氟化铵与铪

摘要

一种自基板之氧化表面去除材料之方法，其中该材料系选自于包含光阻、光阻残留物、蚀刻残留物、及其组合之族群，该方法包括第一及第二步骤。第一步骤包括持续将一超临界流体、一载体溶剂、一四丁基氟化铵、以及氢氟酸与该基板保持接触，直至该材料与该氧化表面分开为止，藉此形成分离材料；第二步骤包括自该基板附近去除该分离材料。