发明名称 Silicide-silicon oxide-semiconductor antifuse device and method of making
摘要 An antifuse contains a first silicide layer, a grown silicon oxide antifuse layer on a first surface of the first silicide layer, and a first semiconductor layer having a first surface in contact with the antifuse layer.
申请公布号 US6853049(B2) 申请公布日期 2005.02.08
申请号 US20020095962 申请日期 2002.03.13
申请人 MATRIX SEMICONDUCTOR, INC. 发明人 HERNER S. BRAD
分类号 H01L23/525;(IPC1-7):H01L29/00 主分类号 H01L23/525
代理机构 代理人
主权项
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