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发明名称 METHOD FOR FORMING GATE POLY IN SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION PROCESS
摘要
申请公布号 KR100479230(B1) 申请公布日期 2005.03.25
申请号 KR20020054548 申请日期 2002.09.10
申请人 发明人
分类号 H01L21/336;(IPC1-7):H01L21/336 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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