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发明名称
光电装置用基板,光电装置用基板之制造方法,光电装置,光电装置之制造方法及电子机器
摘要
本发明系一种光电装置用基板,光电装置用基板之制造方法,光电装置,光电装置之制造方法及电子机器,其课题为针对在光电装置用基板或光电装置,根据变更下地层之图案形状之情况而下地层则不易剥离地构成,并由此来抑制反射膜之不良的发生而使制品之产率提升,其解决手段为,本发明之光电装置用基板之特征系由形成有相互堆积配置于基板上之反射膜213及下地层212,并配列包含反射膜及下地层之一部分的复数画素范围而成,并于每个画素范围设置有无形成反射膜之透过开口部213a与,配置在与该透过开口部平面重叠之位置,无形成下地层之下地开口部212a,并针对在作为邻接之前述画素范围间,下地开口部则成相互连续之情况。
申请公布号
TW200515046
申请公布日期
2005.05.01
申请号
TW093125008
申请日期
2004.08.19
申请人
精工爱普生股份有限公司
发明人
大竹俊裕
分类号
G02F1/133
主分类号
G02F1/133
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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