无铬膜层相位移光罩、其制造方法及其制造半导体装置的方法

摘要

本发明系关于一种无铬膜层相位移光罩，包括：一透光基底；至少一第一相位移图案，由至少一环状凹陷所构成；以及一第一次解析透光图案，系由上述环状凹陷所环绕之透光基底所构成，以与上述第一相位移图案构成曝光时所欲之转移图案，此外，本发明亦关于上述光罩之制造方法以及其制造半导体装置之方法。