发明名称 | 量测待测物表面轮廓之装置及方法 | ||
摘要 | 本发明系有关于一种量测待测物表面轮廓之装置及方法,系藉由撷取宽频光之干涉强度以侦测宽频光之干涉强度分布的变化,并对宽频光所包括之至少一特定波长之干涉强度分布进行转换,以取得至少一特定波长之相位分布图,再对至少一特定波长之相位分布图进行相位还原之处理以取得至少一特定波长之相位还原图,最后,对至少一特定波长之相位还原图进行相位–物理尺度之转换,即可取得待测物之表面轮廓。 | ||
申请公布号 | TW200523522 | 申请公布日期 | 2005.07.16 |
申请号 | TW093100599 | 申请日期 | 2004.01.09 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 许华珍;童启弘;张中柱 |
分类号 | G01B11/24 | 主分类号 | G01B11/24 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |