| 发明名称 | 基板之显像处理方法,基板之处理方法及显像液供给喷嘴 | ||
| 摘要 | 本发明系于晶圆的平板印刷工程中，在不影响抗蚀膜之下将形成在抗蚀膜下的反射防止膜除去。本发明是在基板平板印刷工程中，显像液中形成具有溶解性的反射防止膜，之后形成抗蚀膜。曝光处理后的显像处理时，显像液供给基板使抗蚀膜显像。在完成抗蚀膜的显像时，将浓度低于显像液的第2显像液供给至基板上。藉着该第2显像液的供给仅溶解反射防止膜，予以除去 | ||
| 申请公布号 | TW200525588 | 申请公布日期 | 2005.08.01 |
| 申请号 | TW093137048 | 申请日期 | 2004.12.01 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 石桃子;八重英民 |
| 分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本 | ||