| 主权项 |
1.一种正型光敏性聚合物组合物,其包含:(a)一种可溶于硷水溶液中之聚合物,该聚合物系选自:(a-1)具有通式(Ⅰ)之重现单元之聚醯胺酸酯:其中R1系表示四价(C6-C40)芳族基;R2系表示具有羧基或酚羟基之二价(C6-C40)芳族烃基;而两个R3分别系表示单价之脂族(C1-C20)烃基;及(a-2)一种聚苯并恶唑先质,其系由一种二羧酸与一种二羟基二胺反应所得之聚羟醯胺;(b)相对于100重量份数成分(a)为5至100重量份数之一种邻-二叠氮化合物,及(c)相对于100重量份数成分(a)为0.01至30重量份数之一种溶解抑制剂,于硷水溶液中供成分(a)使用,该溶解抑制剂选自:(c-1)一种盐,选自三芳基硫盐,芳基重氮盐,及具有通式(Ⅱ)之二芳基碘盐:其中R4及R5个别表示单价有机基,而R4及R5可相同或相异;而m及n个别表示由0至5之整数;而X-系表示抗衡离子,(c-2)盐二芳基化合物,及(c-3)四烷基铵盐。2.如申请专利范围第1项之光敏性聚合物组合物,其中成分(a)为具有式(Ⅰ)所示之重现单元之聚醯胺酸酯。3.如申请专利范围第1项之光敏性聚合物组合物,其中成分(a)系为聚苯并恶唑先质,而其系为由二羧酸与二羟基二胺反应而得之聚羟醯胺。4.如申请专利范围第1项之光敏性聚合物组合物,其中成分(a)系为具有通式(Ⅰ)之重现单元之聚醯胺酸酯:其中R1系表示四价(C6-C40)芳族基;R2系表示具有羟基或酚羟基之二价(C6-C40)芳族烃基;而两个R3分别系表示单价之脂族(C1-C20)烃基。5.如申请专利范围第1项之光敏性聚合物组合物,其中该成分(c)系为二芳基碘盐、二芳基化合物、二芳基化合物或四甲基铵卤化物。6.如申请专利范围第5项之光敏性聚合物组合物,其中该成分(c)系为通式(Ⅱ)之二芳基碘盐:其中R4及R5个别表示单价有机基,而R4及R5可相同或相异;而m及n个别表示由0至5之整数;而X-系表示抗衡离子。7.一种形成浮凸图样之方法,其包括施加如申请专利范围第1项之正型光敏性聚合物组合物于基板上并将彼乾燥之步骤,使彼曝光之步骤,使用硷水溶液使之显影之步骤,及加热之步骤。8.如申请专利范围第7项之形成浮凸图样之方法,其中该曝光步骤所使用之光系为i-线。9.一种电子零件,其具有于申请专利范围第7项之方法中所形成之浮凸图样,以作为钝化膜或中间层绝缘膜。10.一种电子零件,其具有于申请专利范围第8项之方法中所形成之浮凸图样,以作为钝化膜或中间层绝缘膜。图式简单说明:图1A至图1E系显示一种制造具有多层互连结构之半导体装置的方法。 |
