发明名称 |
用以制造一非挥发性铁电记忆体装置之方法及由该方法所获得之记忆体装置 |
摘要 |
本发明系关于包含一电晶体(22)和一电容器(23)之非挥发性铁电记忆体装置(30),尤其关于非挥发性电抹除可程式铁电记忆体元件,以及一种用于处理该等非挥发性铁电记忆体装置(30)之方法。根据本发明之方法包含:一些限制之光罩步骤,因为该电晶体(22)之一闸极介电层和该电容器(23)之一介电层系由相同之有机或无机铁电层(14)形成。 |
申请公布号 |
TW200534467 |
申请公布日期 |
2005.10.16 |
申请号 |
TW093139255 |
申请日期 |
2004.12.17 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
艾伯特W 马斯门;道格伯特 迈可 迪 李由;葛温 贺莫纳司 葛林克 |
分类号 |
H01L27/00 |
主分类号 |
H01L27/00 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |