光二极体的制作方法

摘要

一种光二极体的制作方法，其中此光二极体形成于第一导电型之一基底上。此方法系先形成一隔离结构于基底中，以于基底中定义出光感测区。接着，于基底中形成多个沟槽。之后，于基底上形成第二导电型之一掺杂层，其中此掺杂层至少覆盖沟槽之内壁与基底之部分顶面。此光二极体的制作方法可缩短整体制程时间，并达到增加生产效率与降低生产成本的目的。