| 主权项 |
1.一种触控式面板之导电膜接着结构,包含有:一基板,具有一顶面与一底面;一非氧化物接着层,具有一第一面与一第二面,该非氧化物接着层之第一面系与该基板顶面接触;一氧化铟锡膜,系设于该非氧化物接着层的第二面上。2.依据申请专利范围第1项所述触控式面板之导电膜接着结构,其中该基板由一塑胶本体与一设于该本体一侧面之硬质膜组成,该本体另一侧面形成该顶面,该硬质膜未与该本体接触之一面形成该底面。3.依据申请专利范围第2项所述触控式面板之导电膜接着结构,其中该本体由聚乙烯对苯二甲酸酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚醚堸(Polyethersulfone,PES)或聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)所制成,且厚度介于100~200m之间。4.依据申请专利范围第2项所述触控式面板之导电膜接着结构,其中该硬质膜厚度介于3~10m之间。5.依据申请专利范围第1项所述触控式面板之导电膜接着结构,其中该基板由一塑胶本体与二硬质膜组成,该二硬质膜分别设于该本体的两侧面,且各该硬质膜未与该本体接触之一面分别形成该顶面与该底面。6.依据申请专利范围第5项所述触控式面板之导电膜接着结构,其中该本体由聚乙烯对苯二甲酸酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚醚堸(Polyethersulfone,PES)或聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)所制成,且厚度介于100~200m之间。7.依据申请专利范围第5项所述触控式面板之导电膜接着结构,其中各该硬质膜厚度介于3~10m之间。8.依据申请专利范围第1项所述触控式面板之导电膜接着结构,其中该非氧化物接着层为氮化矽(Si3N4)、氮化钛(TiN)、氮化锆(ZrN)、碳化矽(SiC)、碳化钛(TiC)、氮化铝(AlN)或氮化铬(CrN)所制成,且该非氧化物接着层厚度介于10~1000埃(A)之间。图式简单说明:第一图为本发明第一实施例之示意图。第二图为本发明第二实施例之示意图。 |
