首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
PLASMA PROCESSING APPARATUS
摘要
申请公布号
KR20060002281(A)
申请公布日期
2006.01.09
申请号
KR20040051241
申请日期
2004.07.01
申请人
ADP ENGINEERING CO., LTD.
发明人
LEE, YOUNG JONG;CHOI, JUN YOUNG;NAM, CHANG WOO
分类号
H01L21/3065
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
金矿堆浸中的自流静态吸附方法
溅射靶、透明导电氧化物和制备该溅射靶的方法
电脑模组的承载装置
断路器
美饰化妆制剂
一种亮度反馈平板显示器
改进的用于双金属镶嵌方法中的填充物料
一种分子筛的铵离子交换方法
用于生产低级脂族羧酸酯的催化剂,其生产方法和用其生产低级脂族羧酸酯的方法
APPARATUS AND METHOD OF A DISTRIBUTED CAPITAL SYSTEM
Optical manifold
Inertial sensor and combined sensor therewith
Non-aqueous electrolyte and a battery, a supercapacitor, an electrochromic device and a solar cell including such an electrolyte
CONTROLLED IMPEDANCE TRANSMISSION LINES IN A REDISTRIBUTION LAYER
PROCESS FOR PRODUCING GREEN TEA POLYPHENOL
Safety controller with safety response time monitoring
Plastic tube with inner coating and methods for its manufacturing
Projector device with lens array
Detecting interaction between substances
Integrated Coupler