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发明名称
DISPOSITIF ET PROCEDE D'EXPOSITION DE LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION MEGASONIQUE
摘要
申请公布号
FR2893725(B1)
申请公布日期
2009.05.29
申请号
FR20050011753
申请日期
2005.11.21
申请人
TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO.,LTD.
发明人
CHANG CHING YU;LIN CHIEN HUNG;LIN CHIN HSIANG;LU DING CHUNG;LIN BURN JENG
分类号
G03F7/20;B08B3/12;G03B27/42;G03B27/52;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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