发明名称 DISPOSITIF ET PROCEDE D'EXPOSITION DE LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION MEGASONIQUE
摘要
申请公布号 FR2893725(B1) 申请公布日期 2009.05.29
申请号 FR20050011753 申请日期 2005.11.21
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO.,LTD. 发明人 CHANG CHING YU;LIN CHIEN HUNG;LIN CHIN HSIANG;LU DING CHUNG;LIN BURN JENG
分类号 G03F7/20;B08B3/12;G03B27/42;G03B27/52;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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