| 摘要 |
본 발명은 각각 하나 이상의 처리될 표면을 갖는 2개 이상의 다층체의 위치 결정 장치를 포함하고, 위치 결정 장치는 다층체가 서로 대향하도록 설계되고, 처리될 표면은 다층체가 처리 시스템에서 다층체 배열로서 처리될 수 있도록 서로 멀리 향하고 있는, 감소된 챔버 공간을 형성하는 장치, 예를 들어 공정 박스 또는 공정 후드에 관한 것이다. 본 발명은 또한 2개의 다층체를, 다층체가 서로 대향하도록 감소된 챔버 공간을 형성하는 장치에 배치하고, 처리될 표면은 2개 이상의 대상체가 처리 시스템에서 다층체 배열로서 처리될 수 있도록 서로 멀리 향하고 있는, 각각 하나 이상의 처리될 표면을 갖는 2개 이상의 다층체의 위치 결정 방법에 관한 것이다. |
