发明名称 烯属烃之聚合方法
摘要
申请公布号 TW017326 申请公布日期 1974.11.01
申请号 TW06211478 申请日期 1973.10.11
申请人 SOLVAY CIE 发明人 CHARLES BIENFAIT
分类号 C08F4/642 主分类号 C08F4/642
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1﹒一种在含有有机铝化合物及固态触媒复合物之触媒系之存在下实施分子中含有2至6个碳原子之─烯属烃之低压聚合及共聚合方法,其特征乃在于该固态触媒复合物系由含卤素的钛化合物与表面沉积有含氧或含卤素的镁化合物之多孔性铝化合物反应而制备者。2﹒如请求专利部份第1项之方法,其特点为多孔性氧化物上沉积之镁化合物之量,为每平方公尺多孔性氧化铝之表面面积上有镁110^─3至510^─3公丝(mg)原子。3﹒如请求专利部份第1项之方法,其特点为镁化合物系在含1至6个碳原子的烷氧基化镁与苯氧基化镁中选用。4﹒如请求专利部份第1项之方法,其特点为镁化合物系在水化氯化镁中选用。5﹒如请求专利部份第1项之方法,其特点为镁化合物系以水溶液或有机溶液状态沉积于多孔性氧化铝上。6﹒如请求专利部份第1项之方法,其特点为多孔性氧化铝其内部之空隙大于0﹒3cm3/g。7﹒如请求专利部份第1项之方法,其特点为多孔性氧化铝其表面面积为200至400m2/g。8﹒如请求专利部份第1项之方法,其特点为铝与至少另外一种金属之复合氧化物,系自下面化学式的复合氧化物中选用:MgO,Al2o3,SiO2,Al2O3,MgO,SiO2,Al2O39﹒如请求专利部份第1项之方法,其特点为多孔性氧化铝为经过氟化者,氟/铝之原子比为0﹒01至1。10﹒如请求专利部份第5项之方法,其特点为沉积有镁化合物的多孔性氧化铝,系在低于镁化合物之分解温度作活性处理。11﹒一种固态触媒复合物制法,其特征乃系令一种合卤素的钛化合物与表面沉积有含氧或含卤素的镁化合物之多孔性铝化合物反应而制备者。
地址 台南巿仁和路85号