| 主权项 |
1﹒用以制备下式化合物之方法 式中R1系CH3;R2系C1─C4烷基;R3系CH3或Cl;Y、Y'、Z及Z'为氢、卤素、甲基或甲氧基;其限制条件为:仅有一苯还可在其与唑环成对位之碳原子上被一非为氢之取代基所取代。此方法包括;将下式之唑基系化合物溶于一种与水可相溶混之低分子量酮之水溶液中:(式中R1.R2.Y、Y'、Z'及Z如上文所述,X系具有一至三个电荷之阴离子,m系1.2或3之一整数);对如此形成之溶液,以溶于水中之一克分子当量硷金属氢氧化物处理之;再以下式之化合物处理此溶液:(式中R3如上所述,此化合物系溶于水及一种与水可相溶混之低分子量酮之含水混合物中,pH値在约6﹒8及7﹒2之间);然后自反应混合物中回收如此形成之产物。 |
