发明名称 WERKWIJZE TER VERVAARDIGING VAN EEN HALFGELEIDERINRICH- TING, WAARBIJ EEN OP EEN OPPERVLAK VAN EEN HALFGELEIDER- LICHAAM AANGEBRACHTE LAAG MATERIAAL MET IONEN WORDT GE- BOMBARDEERD.
摘要 A method of implanting atoms of an element in a semiconductor body to change properties associated with the body, in which a layer comprising the element is provided on the body and bombarded with ions which by energy transfer cause atoms of the element to enter the body. The composition and thickness of the layer on the semiconductor body in the path of the bombarding ions being such that the majority of the ions bombarding the layer are absorbed in the layer without entering the semiconductor body.
申请公布号 NL163059(B) 申请公布日期 1980.02.15
申请号 NL19700016629 申请日期 1970.11.13
申请人 N.V. PHILIPS' GLOEILAMPENFABRIEKEN, EINDHOVEN. 发明人
分类号 H01J29/45;H01L21/00;H01L23/29;H01L23/485;H01L23/532;H01L29/00;H01L31/00;(IPC1-7):01L21/28;01L21/265 主分类号 H01J29/45
代理机构 代理人
主权项
地址