发明名称 リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法
摘要 変性キシレンホルムアルデヒド樹脂をシアネート化して得られる、シアン酸エステル化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成用材料、該材料を含む組成物、該組成物を用いるパターン形成方法。
申请公布号 JP6052652(B1) 申请公布日期 2016.12.27
申请号 JP20160554521 申请日期 2016.04.07
申请人 三菱瓦斯化学株式会社 发明人 岡田 佳奈;牧野嶋 高史;越後 雅敏;東原 豪;大越 篤
分类号 G03F7/11;G03F7/26 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
主权项
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