发明名称 |
リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法 |
摘要 |
変性キシレンホルムアルデヒド樹脂をシアネート化して得られる、シアン酸エステル化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成用材料、該材料を含む組成物、該組成物を用いるパターン形成方法。 |
申请公布号 |
JP6052652(B1) |
申请公布日期 |
2016.12.27 |
申请号 |
JP20160554521 |
申请日期 |
2016.04.07 |
申请人 |
三菱瓦斯化学株式会社 |
发明人 |
岡田 佳奈;牧野嶋 高史;越後 雅敏;東原 豪;大越 篤 |
分类号 |
G03F7/11;G03F7/26 |
主分类号 |
G03F7/11 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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