发明名称 Verfahren zum Beschichten eines Substrats.
摘要 Die Erfindung betrifft das Beschichten von Substraten (10), die mit Vias (16) versehen sind. Hierbei tritt das Problem auf, dass durch das Beschichtungsmittel Luft in den Vias eingeschlossen wird. Dies ist nachteilig hinsichtlich der Planheit der Oberfläche. Um dieses Problem zu lösen, ist erfindungsgemäss ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats vorgesehen, das mit Vias versehen ist, wobei die folgenden Schritte ausgeführt werden: das Substrat wird konditioniert; und das Substrat wird mit einem isolierenden Material (20) beschichtet.
申请公布号 CH710963(A2) 申请公布日期 2016.10.14
申请号 CH20160000450 申请日期 2016.04.07
申请人 SUSS MicroTec Lithography GmbH 发明人 Katrin Fischer;Florian Palitschka;Darren Robert Southworth;William Whitney
分类号 G03F7/16;B05D3/00;H01L21/71 主分类号 G03F7/16
代理机构 代理人
主权项
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