| 主权项 |
1﹒一薄光敏层,藉施一与层片边缘横向之应张力, 于层压至一基质上而可自整缘,其包含(a)加 成可聚化乙烯基未饱和单体,(b)藉光化辐射 以活化之一引发系统(c)一包含与(a)及( b)相容的有机聚合物之连续多量相和具粒子大 小0﹒1至25微米之散布非纤维固粒之非连续 少量相之黏合剂。此层片在断点之延伸率在约2 %及50%间。 2﹒如请求专利部份第1项之光敏层在断点之延伸 率 在5%及30%间。 3﹒请求专利部份第1项之光敏层,其固粒为聚乙烯 珠粒。 4﹒具涂布于一可剥除支持体之薄光敏层之感光元 件 ,当层压于基质此光敏层藉施一与层片边缘横向 之应张力而可自控缘,其包含(a)加成可聚化 乙烯基未饱和单体,(b)藉光化辐射以活化之 一引发系统及(c)一包含与(a)及(b相容 的有机聚合物之连续多量相和具粒子大小0﹒1 至25微米之散布非纤维固粒之非连续少量相之 黏合剂,此层片在断点之延伸率在约2%及50 %间。 5﹒请求专利部份第4项之感光元件,其中光敏层在 断点之延伸率在约5%及30%间。 6﹒请求专利部份第4项之感光元件,其中固粒为聚 乙烯珠粒。 7﹒请求专利部份第6﹒项之感光元件具保护罩层 。 8﹒至少层压光敏层于其一面之基质,此光敏层当 层 压于基质,藉施一与层片边缘横向之应张力而可 自整缘,其包含(a)加成可聚化乙烯基未饱和 单体,(b)藉光化辐射以活化之一引发系统及 (c)一包含与(a)及(b)相容的有机聚合 物之连续多量相和具粒子大小0﹒1至25微米 之散布非纤维固粒之非连续少量相之黏合剂,此 层片在断点之延伸率在约2%及50%间。 9﹒请求专利部份第8项之被层压之基质,其中之光 敏层在断点之延伸率在约5%及30%间。 10﹒请求专利部份第8项之基质,其中固粒为聚乙烯 珠粒。 11﹒请求专利部份第8项之被层压之基质沿边缘光 敏 层均匀整缘之法,包含施一与层片边缘横向而超 过层片断裂张力强度之抗张应力。 12﹒沿一基质边缘薄聚合物质均匀整缘之法,此基 质 被此薄聚合层压,此法包含:(1)并入聚合层 一非连续少量相之散布非纤维固粒;及(2)施 一与层片边缘横向而超过层片断裂张力强度之抗 张应力。 |
