| 主权项 |
1﹒用来裂炼烃进料之一种方法,包括使烃进料与由一活性触媒成份及一基块所组成之裂炼触媒于裂炼状况下接触,且在其中已于裂炼触媒中以裂炼触媒为准加入0﹒01至1重量百分率之一选择形状促进剂,其具有超过12之砂土对氧化铝莫耳比,及其颗粒形式之约束指数为从1到12。2﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中选择形状促进剂加入之数量为0﹒02至0﹒5重量百分率。3﹒根据上述请求专利部份第1或第2项之方法,其中选择形状促进剂为ZSM─11,ZSM─23,ZSM─35,或ZSM─38。4﹒根据上述请求专利部份第1或第2项之方法,其中选择形状促进剂为ZSM─5。5﹒根据上述请求专利部份第1至第4项任一项之方法,其中选择形状促进剂本质上不含氧化铝。6﹒根据上述请求专利部份第1至第5项任一项之方法,其中选择形状添加促进剂系以具有小于5微米之颗粒大小之颗粒形式加入。7﹒根据上述请求专利部份第1至5项任一项之方法,其中选择形状添加促进剂以具有大于10微米颗粒大小之颗粒形式加入。8﹒根据上述请求专利部份第6项之方法,其中选择形状促进剂以乾粉未加入而至少部份地表面涂布于裂炼触媒颗粒。9﹒根据上述请求专利部份第1项至第6项任一项之方法。其中选择形状促进用系以在烃进料中之分散体加入。10﹒根据上述请求专利部份第9项之方法,其中选择形状促进剂已与烃进料预先反应。11﹒根据上述请求专利部份第1至第7项任一项之方法,其中选择形状促进剂已加至触媒储料。12﹒根据上述请求专利部份第11项之方法,其中选择形状促进剂成为水浆体加入。13﹒根据上述请求专利部份第11项之方法,其中选择形状促进剂以在除裂炼进料外之一有机介质中之悬浮液加入。14﹒根据上述请求专利部份第11项之方法,其中选择形状促进剂与循环进料一起加入。15﹒根据上述请求专利部份第11项之方法,其中选择形状促进剂已在再生器中加至裂炼触媒。16﹒根据上述请求专利部份第1至第15项任一项之方法,其中活性触媒成份为沸石X或沸石Y。17﹒根据上述请求专利部份第1至第16项任一项之方法,为一流体媒裂法。18﹒根据上述请求专利部份第1至第16项任一项之方法,为移动床媒裂法。 |
