| 主权项 |
1﹒薄膜厚度之测量装置,包括:位于该膜之一侧的红外线源;具有至少二通孔之圆盘,可转动自如地安装在该红外线源与该膜之间;设置在该圆盘之通孔上的带通滤波器,以过滤该红外线;凹面之半球形反射器,其反射器面朝向该薄膜,内有洞孔,并位于该红外线源与该膜之间,因而,该红外线可通过该洞孔;凸面反射器,位于该膜与该凹面反射器之间,并具有凸面反射面,朝向该凹面反射器;以及集光引导器,有察觉该红外线之机构,并位于该膜在红外线源之相反侧者。2﹒如请求专利部份第一项之装置,其中,该凸面反射器包括半球形反射面者。3﹒如请求专利部份第一项之装置,其中,该凸面反射器包括一部份半球形反射面者。4﹒如请求专利部份第一项之装置,其中,该凸面反射器包括锥形反射面者。5﹒如请求专利部份第一、二、三或四项之装置,其中,该凸面反射器系设在该凹面反射器中心附近者。6﹒如请求专利部份第一、二、三成四项之装置,又包括透镜,设置在该红外线源与该凹面反射器之间,以聚焦该红外线者。7﹒如请求专利部份第六项之装置,其中,该凹面反射器之洞孔中心,与该凸面反射面之中心,系与该边镜之轴线对准者。8﹒如请求专利部份第一、二、三成四项之装置,其中,该集光引导器包括锥形反射面,该红外线察觉机构位于该锥形面之顶点者。9﹒如请求专利部份第八项之装置,其中,该集光引导器之开端直径,较该凹面反射器之直径为小者。 |
